Hervé HIDALGO
Ingénieur de recherche, SUREO - GREMI
(*) Traitements de surface / Matériaux
- Traitement de surface sous vide et par projection thermique
- Synthèse et mise en forme de céramiques techniques
- Métallurgie et traitements thermiques
(*) Transfert de technologie / recherche appliquée
- Veille technologique
- Mise au point et développement de procédés sur installations pilotes ou prototypes
- Optimisation des process de fabrication pour l'obtention de propriétés spécifiques
(*) Gestion de projets
- Définition des demandes du client et des moyens à mettre en place (humain, technique, financier)
- Organisation et planification du projet : mise en place d'un plan d'expériences
- Rédaction de comptes rendus et animation de réunions
(*) Contrôles, Tests, Essais
- Définition du programme d'essais : choix du dispositif, détermination du protocole expérimental
- Réalisation des mesures : tests physico-chimiques, morphologiques, mécaniques
- Interprétation des résultats
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(*) Procédés de dépôts et de mise en forme
- dépôts minces par pulvérisation cathodique magnetron, PECVD microonde et radiofréquence
- dépôts épaisses par projection plasma
- dépôts électrolytiques et anodisation
- frittage classique et frittage sous charge (HIP)
- traitements thermiques de conversion ou diffusion
(*) Techniques de caractérisations
- morphologiques : microscopie optique et interférometrique, MEB, AFM
- structurales : diffraction des rayons X, TEM
- élémentaires : EDS, RBS, ERDA, XPS
- mécaniques : test de traction, test de flexion 3 point, adhésion/cohésion
- d'usage : brouillard salin, frottement, mouillabilité
(*) Matériaux
alumine, nitrure d'aluminium, silicium, silice, nitrure de silicium, composite céramique/céramique, fonte
39 contacts- Développement de piles à combustible de type SOFC en couches minces
2005 - 2008MISSION #1: Evaluation de couches à gradient de compositions sur fonte : amélioration de la tenue à la corrosion
(*) Actions menées :
- Etudes bibliographiques : choix des matériaux, choix des technologie ;
- Mise au point de protocoles expérimentaux pour les dépôts de silicium par PECVD et de métaux de transition par pulvérisation cathodique ;
- Réalisation de dépôts sur substrat fonte. Adaptation des protocoles ;
- Mise en oeuvre de traitements thermiques de diffusion si nécessaire ;
- Caractérisation par le client des configurations mises au point
(*) Environnements techniques :
- Techniques de dépôts sous vide (PVD et PECVD) ;
- Traitements thermiques de métaux ;
- Caractérisation : MEB, corrosion humide, scratch-test.
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MISSION #2: Réalisation de barrières thermiques par projection plasma
(*) Actions menées :
- Réalisation de dépôts par projection thermique multi-couches. Evaluation de gradients de compositions différents ;
- Caractérisation de l'adhérence et des propriétés thermiques des couches épaisses ;
- Réalisation d'un échantillon-pilote pour test en grandeur réelle chez le client.
(*) Environnements techniques :
- Techniques de dépôts par projection thermique (projection plasma) ;
- Test d'adhésion/cohésion par traction, mesure de la conductivité thermique.
2003 - 2005MISSION #1: Enseignement de la physique-chimie à des élèves-ingénieurs
(*)Actions menées :
- Encadrement de Cours (Chimie Inorganique), Travaux Dirigés (Chimie Inorganique, caractérisation des matériaux) et Travaux Pratiques (Electrochimie, caractérisation des matériaux, mécanique des fluides, thermique, mécanique)
- Mise à jour d'une série de Travaux Pratiques de découverte de la physique
- Suivis d'étudiants
MISSION #2: Chercheur en traitements de surface
(*) Actions menées :
- Etude comparative d'alumines obtenues par différents techniques d'élaboration : frittage classique et sous charge, procédé de dépôts humide (sol-gel dip-coating) procédés de dépôt sous vide (PECVD, PLD), procédés de dépôts épais (projection plasma) ;
- Etude de faisabilité de réalisation de nitrure d'aluminium et de silicium par PECVD ;
- Réalisation pour un industriel de dépôts minces ayant des qualités décoratives.
1999 - 2003THESE: Dépôt chimique en phase vapeur de couches minces d’alumine dans une post-décharge micro-onde
(*) Actions menées :
- Remise en état d'un dispositif de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma : changement du système de pompage, de la source microonde, du porte-échantillon ;
- Etude par plans d'expériences de criblage et de surface de réponse de l'influence des paramètres expérimentaux sur le dépôt d'alumine par PECVD. Couplage à une étude paramétrique ;
- Caractérisations multi-échelle et multi techniques des films obtenus ;
- Détermination par étude statistique par analyse en composantes principales du chemin réactionnelle par couplage de l'influence des paramètres sur les propriétés de dépôts et la composition de la phase réactive ;
- Diversification par la mise au point de dépôt de silice ;
- Application de ces dépôts d'alumine dans différents projets industriels comme barrière thermique, isolant électrique, barrière à la diffusion.