Gérald THERET

En résumé

Entreprises

• LFoundry Rousset - Responsable Technique Substrat Silicium

  ROUSSET 2010 - 2014 - Suivi qualité de l'approvisionnement substrat
  - Qualification de nouveaux fournisseurs

• LFoundry Rousset - Ingénieur Procédés

  ROUSSET 2001 - maintenant Responsable des Procédés de dépôts de couches minces (LPCVD): Poly-Silicium, Nitrure de Silicium, TEOS, HTO
  - Optimisation des procédés afin d'en améliorer la qualité, avec maîtrise des coûts et des délais
  - Développement et industrialisation de nouveaux procédés
  - Mise au point et qualification de nouveaux équipements
  - Rédaction de procédures, de spécifications
  - Encadrement technique du personnel support de production
  - Gestion de projets (qualification de nouveaux fournisseurs, des nouveaux équipements)

• Thales Optronique - Ingénieur de Recherche

  Courbevoie 1997 - 2000 Thèse CIFRE en Science et Génie des Matériaux, détaché au CEA/LETI et à Angénieux:
  - Elaboration de couches minces optiques (SiO2, HfO2) et caractérisations (spectrophotométrie, ellipsométrie, effet mirage)
  - Etude des interfaces de couches minces optiques

• CNRS - Stage

  Paris 1996 - 1996 Laboratoire de Thermodynamique et de Physico-Chimie Métallurgique (Grenoble)
  - Elaboration de couches minces de TiN et TiAlN par procédé CVD
  - Simulations thermodynamiques et caractérisations

• CEA-Grenoble (France) - Scientifique du Contingent

  PARIS 1996 - 1997 Au sein du Laboratoire d'Infrarouge:
  - Elaboration par Epitaxie par Jets Moléculaires de composés II/VI pour l'imagerie infrarouge
  - Mise au point du procédé et caractérisations (Diffraction RX, Transmission IR)

Formations

• Institut National Polytechnique

  Grenoble 1997 - 2000 Doctorat

• Institut National Polytechnique ENSEEG

  Grenoble 1993 - 1996 Ingénieur

Réseau

• Bertrand RIGAUD

• Cedric PLANTEGENEST

• Delphine CASTAGNÉ

• Didier ROBERT

• Garance DEGRET

• Jean-Luc CHARDONNET

• Lorène COURTADE

• Philippe CATANIA

• Valerie AQUILA

• Wilfrid MEFFRE