Karine JULLIAN

En résumé

Entreprises

• Cea-leti - Ingénieur chercheur

  GRENOBLE 2018 - maintenant

• ARNANO - Responsable Industrielle

  2015 - 2018 • R&D:
  - Chef de projet dans le cadre d'un projet collaboratif français: HMDE
  
  • Production:
  -Responsable équipement (lithographie laser, gravure ICP)
  - Gestion de la production
  
  www.fahrenheit2451.fr

• Cea-leti - Ingénieur procédés en lithographie avancée et métrologie

  GRENOBLE 2013 - 2014 Intégrée au sein du « service patterning », mon temps a été partagé entre l’équipe de lithographie avancée et celle de métrologie.
  
  -- Lithographie avancée:
  Au travers de consortium et projets européens (IMAGINE et IDeAL), j’ai travaillé sur des procédés utilisant des faisceaux d’électrons ou encore de l’auto-assemblage dirigé de copolymères en bloc. De plus, j’ai travaillé sur la ligne pilote 3D-300 pour la production de puces.
  • Responsable d’un nouvel équipement (piste d’étalement et de développement):
  - Mise en place du suivi statistique de l’équipement
  - Rédaction des procédures (utilisation, sécurité…)
  - Formation des utilisateurs
  - Interface avec les différents acteurs : production, maintenance, équipementier, ingénieurs projets, fournisseurs matériaux
  - Installation et qualification de nouveaux procédés
  - Encadrement d’un technicien
  - Résolution de problèmes
  - Rapports de synthèse d’activité dans le cadre de projets de collaboration européens
  • Support production
  - Production de lots
  
  --Métrologie:
  • Chargée de projet équipement pour introduire une nouvelle technique de mesure au sein du laboratoire du Leti, la scattérométrie, mesure optique non destructive
  - Définitions des besoins internes
  - Définition de structures de tests
  - Rédaction du cahier des charges
  - Etude des différents équipementiers sur le marché
  - Présentations externes dans le but d’un achat collaboratif via un projet européen
  - Etude préliminaire des propriétés optiques, sur un empilement simple de matériaux, et leur influence sur le résultat final
  - Définition d’une méthodologie et d’une métrologie de référence
  • Support production pour les mesures dimensionnelles par microscope électronique à balayage
  - Déblocage de lots
  - Formation utilisateurs

• STMicroelectronics - Apprentie ingénieur R&D en photolithographie

  2009 - 2012 Etudes des différents paramètres influents lors d'une étape de photolithographie 193 nm à immersion pour des technologies allant de 45 à 28 nm dans le but d'améliorer la variabilité des dimensions critiques à l'aide de correction avancées.
  Etude réalisée en partenariat avec ASML, aux Pays-Bas : définition des tests, production des lots, caractérisation à l'aide d'équipements de métrologie et analyses.

• Photline Technologies - Assistante ingénieur stagiaire

  2009 - 2009 Caractérisation de procédé pour l’optimisation de modulateurs optiques et accéléromètres sur plaquette de LiNbO3
  • Choix du produit selon cahier des charges
  • Définition des paramètres process
  • Tests d’implémentation sur produit complet pour vérification

• EDF Energy - Technicienne stagiaire

  Paris 2007 - 2007 Fabrication d’un modèle de régulation de niveau d’eau d’un barrage
  • Définition des schémas électriques
  • Programmation de l’automate
  • Branchement de l’armoire électrique complète

Formations

• TELECOM Saint Etienne

  Saint Etienne 2009 - 2012 Ingénieur
  
  Mention Bien

• IUT Saint Jérôme

  Marseille 2008 - 2009 Licence professionnelle
  
  Microélectronique et Microsystèmes - Option optoélectronique
  Mention Assez Bien

• Coventry University (Coventry)

  Coventry 2007 - 2008 Bachelor of Science

• IUTB Université Claude Bernard Lyon 1

  Villeurbanne 2005 - 2007 DUT
  
  Trésorière de la Fédération de l'IUT (MAGIC BDE, 2007)
  Secrétaire de l'Association des Elèves en Génie Electrique (ADEGE, 2006-2007)

Réseau

• Bruno SAUVIAC

• Eric DE COURTOIS

• Guillaume ARNAULT

• Jessica BERGUES

• Julien AUDIN

• Maxime DAVID-SPINATO

• Romain DELORE

• Tse Alumni : ASSOCIATIONS DES ANCIENS ÉLÈVES DE TELECOM SAINT-ETIENNE.