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Marianne COIG

GRENOBLE

En résumé

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Entreprises

  • CEA-LETI - Ingénieur chercheur

    GRENOBLE 2012 - maintenant Développement des procédés de dopage par implantation ionique pour les cellules photovoltaïques en collaboration avec l’INES (Institut National de l’Energie Solaire)
  • STMicroelectronics - Ingénieur Device Imager

    2012 - 2012 Analyse et amélioration des rendements d’un produit imager
  • STMicroelectronics - Ingénieur process Préparation de Surface

    2011 - 2011 Responsable de la mise en production d’un équipement de préparation de surface

    • Mise en production et qualification d’un nouvel équipement
    - Gestion de projet
    - Rédaction d’un plan d’action avec planning associé
    - Réalisation / Mise en place des tests d’acceptance
    - Reporting permanent : collecte des résultats, traitement des données, compte rendu journalier aux différentes équipes et au fournisseur
    - Suivi des produits dédiés au démarrage de l’équipement
    - Mise en place de plan d’expérience
    - Sécurisation du procédé : mise en place des cartes de contrôle (SPC), du contrôle des paramètres équipement in-situ (APC)
    - Assurer la coordination entre les différentes équipes

    • Responsable du calcul des temps de consommation de chimie et des temps de process sur les équipements de l’atelier
  • STMicroelectronics - Ingénieur process Métrologie

    2010 - 2011 Gestion de deux parcs d'équipement (support et amélioration continue):
    • Support des parcs d’équipement de métrologie
    - Gestion des problèmes techniques
    - Rédaction de procédures, formation des techniciens
    - Collaboration avec les différents ateliers, la maintenance et les fournisseurs

    • Amélioration continue : gestion de projet
    - Optimisation de l’utilisation d’un équipement de métrologie
    - Bibliographie
    - Mise en place d’un plan d’expérience
    - Rédaction d’un rapport technique
  • CEA-LETI Grenoble - Stagiaire Implantation

    2010 - maintenant Implantation et caractérisation in-line d'espèces implantées dans le silicium
    Objectif du stage : Développement d'une nouvelle méthode de caractérisation in-line de toutes les espèces utilisées en implantation ionique, dopantes et non-dopantes.
    - environnement salle blanche
    - formation sur les implanteurs ioniques fort et moyen courant
  • Messier-Dowty - Stagiaire Laboratoire Matériaux et Procédés

    2009 - maintenant Etude des nouveaux traitements de surface répondant aux critères environnementaux.
    - étude de la protection contre la corrosion du WC-Co-Cr déposé par HVOF
    - qualification d'un nouveau vernis compatible avec les exigences environnementales
    - qualification d'un nouveau mastic d'étanchéité

Formations

  • Kungliga Tekniska Högskolan (Institut Royal De Technologie) (Stockholm)

    Stockholm 2009 - 2009
  • Institut National Des Sciences Appliquées (Toulouse)

    Toulouse 2005 - 2010 Microsystèmes

Réseau

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