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Remi BENEYTON

Toulouse

En résumé

Ma curiosité, mon dynamisme, ma motivation et mon goût pour les nouveaux développements technologiques, ainsi que ma formation scientifique universitaire sur les matériaux semi-conducteurs et les méthodes de caractérisation, me poussent à entreprendre une carrière axée sur le développement de nouvelles technologies en particulier au sein des entreprises les plus innovantes
Au cours de mes expériences professionnelles, mon humeur égale, mon sens des responsabilités mes qualités d'adaptation m’ont permis de m'intégrer facilement au sein des équipes. Mes qualités humaines souvent appréciées m'apportent un soutien du personnel, en particulier celui des équipes techniques.

Mes compétences :
Epitaxie
matériaux
Microélectronique
Physique
physique des materiaux
Physique des semi-conducteurs
Semiconducteurs

Entreprises

  • Freescale - Ingenieur R&D process

    Toulouse 2006 - maintenant 2006-...
    Ingénieur Process développement chez Freescale semiconducteur (Crolles 2)
    - Développement et transfert en production des recuits source/drain et des recuits de siliciuration dans les technologies C065 et C045
    - Mise en place de moyens de suivis des procédés et de dérives équipements (monitoring – SPC –FDC)
  • CEA LETI - Ingenieure de recherche Post Doctorat

    PARIS 2005 - 2006 2005-2006
    Ingénieur au Laboratoire de Transfert de Films et Circuits (CEA-LETI)
    - Etude de l’activation des surfaces par plasma appliquée au direct wafer bonding
    - Optimisation des propriétés physique du collage (adhésion, défectivité)
    - Mise en place des procédures de caractérisation par microscopie acoustique
  • LEOM CNRS - Doctorant

    2001 - 2004 2001-2004
    Thèse de doctorat au Laboratoire d’Electronique Optoélectronique et Microsystèmes, CNRS Ecole Centrale de Lyon
    - Etude de l’incorporation du thallium dans une matrice III-V par épitaxie par jets moléculaires assisté plasma,
    - Développement d’une nouvelle source plasma arsenic pour l’épitaxie.
    Collaborations : LEOM, LPM INSA, LENAC UCBL, IEMN Lille, ADDON.

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